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[新闻动态] 益固电子取得受热均匀的真空CVD碳化硅沉积气氛回转炉专利, 使原料能够受热更加均匀 25-02-04
金融界2025年2月1日消息,国家知识产权局信息显示,益固电子(昆山)有限公司取得一项名为“一种受热均匀的真空CVD碳化硅沉积气氛回转炉”的专利,授权公告号CN222411811U,申请日期为2024年5月。 专利摘要显示,本实用新型公开了一种受热均匀的真空CVD碳化硅沉积气氛回转炉,属于回转炉技术领域,包括底座、碳化硅沉积气氛回转炉体、调节组件和驱动组件,所述底座的上表面固定连接有两个竖梁,两个所述竖梁的上表面共同固定连接有横梁,所述碳化硅沉积气氛回转炉体的上表面固定连通有出料管,通过驱动电 ......